| 企业等级： | 普通会员 |
| 经营模式： | 生产加工 |
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科研实验***一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
一氧化硅(SiO)常温常压下为黑棕色至黄土色无定形粉末，难溶于水，熔点：1702°C，沸点：1880°C，密度2.13g/cm³，一氧化硅不太稳定，在空气中会氧化成二氧化硅膜而钝化，仅在高于1200℃才稳定；在氧气中燃烧，和水反应生成氢气。一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料；用作光学玻璃和半导体材料的制备；在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜面上，作为保护膜；半导体材料的制备。
产品参数 中文名 一氧化硅 化学式 SiO 分子量 44.08 熔点 1702℃ 沸点 1880℃ 密 度 2.13g/cm3 纯度 99.99%
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