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二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:379313438                    更新时间:2021-03-09
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科研实验***二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      二氧化硅(SiO2)常温下为固体,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反应。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的 原料,是科学研究的重要材料。 二氧化硅(SiO2)溅射靶可用于半导体,化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)显示器和光学应用。 二氧化硅(SiO2)的其他形状溅射靶材:圆盘,平板,台阶靶,定制 包装:二氧化硅(SiO2)溅射靶是真空密封的。 产品参数 中文名 二氧化硅       化学式 SiO2          熔点 1650±50℃ 分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 点 2230℃ 纯度 99.99%

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